其特点是：超大加工空间，内聚力和附着力定义提高加工能力，采用可编程控制器+触摸屏控制系统，（精密）控制设备运行；根据客户要求，为客户定制设备的腔体容量和层数，满足客户需求；维护维修成本低，便于客户成本控制；精度高，响应快，兼容性好，功能完善。。真空等离子体处理设备产生的等离子体是一种类似固体、液体或气体的物质状态。当气体被赋予一定的势能而电离时，它就变成了等离子体。

氩气本身是惰性气体，内聚力和附着力有什么区别等离子体氩气不会与表面发生反应，最常用的工艺是氩气等离子体通过物理溅射使表面清洁。等离子体物理清洗不会产生氧化副作用，保持清洗材料的化学纯度，腐蚀各向异性，缺点是对表面产生很大的损伤和热效应，选择性差，速度慢。化学清洗和物理清洗各有优缺点。在反应性离子腐蚀中，物理反应和化学反应这两种机制的结合同时起着重要的作用，相互促进，且效果具有更好的选择性、清洁率、均匀性和更好的方向性。

在近真空舱室中，内聚力和附着力定义射频电源在高压下使气体起辉，产生高能等离子体，轰击材料表面，达到清洁效果。5%氩气+95%氮气组合发出粉红色辉光。（5）结束后等待外部气体充满舱室后方可打开舱门。如果气体没有充满舱室，不要强行开门。打开腔室，取出清洗好的样品；再次放置样品清洗。为了使每个样品得到充分清洗，一次放置样品数量不宜过多。（6）待所有样品被清洗完成，关闭所有气源开关及主阀，将等离子清洗机舱门关闭。

四氟化碳C4F是1种无色，内聚力和附着力定义无味的汽体，无毒性、难燃，但在浓度较高的时有着麻痹效用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。C4F电离后，会产生1种含有氢氟酸成分的蚀刻气相等离子体，能在各种有机表面上完成蚀刻和去除物质，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业广泛应用。

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（d）对原料表层的功能仅涉及到纳米级处置，可在保持处置原料原本特效的同时，赋予其另一种新的功能（e）处置温度低，不对原料表层造成损害，常用样品处置后较长时间内保持效果良好等离子设备，可根据客户需求配置流水线生产方案（3）产品结构等离子设备关键由高电压激发主机电源、等离子发生装置喷头及自动控制系统3大组成部分构成。

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