因此，等离子清洗原理用氩气作用寻找新的清洗方式是各厂商努力的方向。采用等离子清洗原理，通过分步测试对ITO玻璃表面进行清洗。这是一种更有效的清洁方法。液晶玻璃的等离子清洗使用氧等离子来去除油渍和有机污染的颗粒，因为氧等离子会氧化有机物以形成气态排放物。唯一的问题是去除颗粒后需要添加防静电装置。清洗过程如下： Air Blow & MDASH; Oxygen Plasma-除了静电，电子行业对自动化程度的要求很高。

上海：浅谈等离子清洗机的清洗原理 等离子清洗原理；当加热等气态物质得到更多能量时，等离子清洗原理就形成了等离子。当达到等离子体状态时，气态分子分解成大量高反应性粒子。这些裂变不是永久性的。当用于形成等离子体的能量耗尽时，各种粒子重新组合形成原始气体分子。与湿法清洗不同，等离子清洗机制是依靠物质在“等离子状态”下的“活化”来达到去除物体表面污垢的目的。

在目前的ITO玻璃清洗过程中，等离子清洗原理用氩气作用大家都在尝试使用各种清洗剂（酒精清洗、棉签+柠檬水清洗、超声波清洗），但是清洗剂的引入会导致清洗剂的引入......因此，寻找新的清洗方式是各厂家努力的方向。采用等离子清洗原理，通过分步测试来清​​洗ITO玻璃表面，是一种较为有效的清洗方法。等离子清洗前后的效果差异如下。

二、等离子清洗原理等离子清洗一般采用激光、微波、电晕放电、热电离、电弧放电等方法将气体激发成等离子态。低压气体辉光等离子体主要用于等离子清洗应用。一些非高分子无机气体（AR2、N2、H2、O2等）在高频低压下被激发，等离子清洗原理产生含有离子、激发分子、自由基等的各种活性粒子。一般来说，在等离子清洗中，活性气体可以分为两类。一种是惰性气体（AR2、N2 等）的等离子体，另一种是反应气体（O2、H2 等）的等离子体。

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n12 + 188.25 n13) kJ/mol (4-5) 在式(4-5)中，n11、n2和n3分别表示以下。 n11为C2烃产物中C2H6的摩尔分数，mol/%，n12为C2烃产物中C2H4的摩尔分数，mol/%；n13为C2烃产物中C2H2的摩尔分数，比率为摩尔/%。

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