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真空（低压）等离子体清洗机(plasma)是一种依靠处于“等离子体状态”的物质的“活化效应”，plasma清洁机即等离子体活化，去除物体外部污渍的清洗设备。这是归因于电子行业的干洗。在此过程中，需要真空泵制造一定的真空条件，以满足清洗的需要。等离子体清洗所需等离子体主要在真空、放电等特殊场合通过特定气体分子，如低压气体辉光等离子体。

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晶圆光刻胶等离子体清洗机清洗工艺为气固相干反应，不消耗水资源，也无需使用昂贵的有机溶剂，使得等离子体清洗机整体成本低于传统湿法清洗工艺。此外，该等离子清洗机解决了湿法去除晶圆表面光刻胶反应不准确、清洗不彻底、易引入杂质等缺点。

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