典型的应用是形成保护涂层，一种智能化保护膜电晕处理装置应用于燃料容器、防划伤表面、类似聚四氟乙烯(PTFE)材料的涂层、防水涂层等。主要特点：能使材料表面的分子链断裂产生新的自由基、双键等活性基团，从而在过程中产生交联、接枝等反应；活性气体可在材料表面聚合生成沉积层，将有效提高材料表面粘接、涂布、印刷的附着力。。电晕在光电领域的应用相机模组：在COMS相机的生产过程中，涉及镜头清洗、电路焊接、封装等工序。

本发明涉及一种通过对硅氧烷或聚氨酯透镜进行电流辉光放电（表面电晕处理设备电晕）处理在硅氧烷或聚氨酯透镜上提供保护覆盖层的方法，保护膜电晕机即在辉光放电期间首先在烃气氛下处理透镜，然后在氧气气氛下处理透镜，从而增加透镜表面的亲水性。必须提供一种具有光学透明性的亲水性表面膜该表面膜层不仅具有良好的润湿性，而且一般情况下允许硅氧烷水凝胶接触镜在人眼内长时间连续使用。

电晕聚合用于保护膜、光学材料、电子材料、分离膜、医用材料等的表面改性已得到广泛的研究。电晕表面处理器中的电晕聚合可用于制备导电聚合物薄膜，保护膜电晕机在电子器件和传感器等方面具有广阔的应用前景，还可用于制备光刻胶膜、分离膜、绝缘膜、光学材料的反射率和折射率控制、薄膜波导、生物医用材料等质膜。分离中研究最多的质膜有气体分离膜、渗透汽化膜和反渗透膜。

针对这一问题，一种智能化保护膜电晕处理装置在实验的基础上提出了抛光工艺中硫酸铵抛光液浓度的两种确定方法。当硫酸铵研磨液浓度小于2.5wt%时，研磨电流密度显著降低。定期测量电流值和研磨液温度，判断是否需要硫酸铵。其次，通过实验得到一定温度下磨削液用量与硫酸铵用量的关系，通过记录磨削过程中磨削液用量，计算出硫酸铵磨削液浓度。前一种方法比较简单，可用于一般工业生产；后一种方法适用于对抛光工艺效果要求较高的生产加工。

保护膜电晕机

与耗尽溶液相比，电晕刻蚀耗尽工艺的优势主要体现在三个方面，即电晕表面处理的优势。电晕退镀清洗机退镀是一种环保工艺，没有任何废气、废液等污染物。与昂贵的耗尽解决方案相比，电晕处理器的耗尽只能消耗电能。单电晕表面处理器，每小时一次，大大降低了成本。电晕退镀清洗机的退镀是通过电晕辉光反应保证高密度低温电晕获得更好的表面活化效果。清洁表面有机物、树脂、灰尘、油污、杂质等，增加表面能。

再来说说国内的电晕（又称电晕器），这是一种无损的表面处理设备。它利用能量转换技术，在一定的真空负压下，通过电能将气体转化为高活性气体电晕，对固体样品表面进行轻柔洗涤，引起分子结构变化，从而对样品表面的有机污染物进行超清洁。在极短的时间内，通过外置真空泵将有机污染物完全抽走，其清洁能力可达分子级。在一定条件下，样品的表面特性也可以改变。

和铜的形成氢化物可以很容易地从材料和反应室表面除去。用H2气体电晕或其它含H电晕刻蚀Au、Ag的原理相似，生成了能降低反应势能的金属氢化物。超低温刻蚀工艺所需的硬件设置与普通电晕表面处理器电感耦合电晕(ICP)刻蚀装置非常相似，只需安装液氦或液氮冷却装置，即可将硅片衬底温度降至-℃。在以SF和O2为电晕气源的前提下，还可以通过电子回旋共振(ECR)刻蚀深硅沟槽或高深宽比硅结构。

这不仅降低了反应粒子的浓度，还使电晕冷却，降低甚至停止了反应速率。1高频感应电晕发生器又称高频电晕炬，或射频电晕炬。它利用无电极的电感耦合，将高频电源的能量输入到连续气流中进行高频放电。2电弧电晕发生器又称电弧电晕炬，或电晕喷枪，有时也称电弧加热器。是一种产生定向的能力&ldquo；低温；电晕射流的放电装置（约2000~20000开启）。

一种智能化保护膜电晕处理装置

该装置一般可由真空室、真空泵、高频电源、点击器、气体导入系统、工作传动系统和控制系统组成。常用的真空泵是旋转油泵，保护膜电晕机高频电源通常使用13.56MHz的无线电波。02-电晕器在大学实验室的操作流程如下：（1）将待处理样品放入真空室固定，启动运行装置，启动排气，使真空室真空度达到10Pa左右的标准真空度。一般排气时间需要2min左右。（2）将电晕清洗气体引入真空室，并保持其压力在10Pa以内。