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表面处理与涂层缺陷(氧等离子体表面处理)
来源: | 作者:金徕等离子处理设备 | 发布时间: 592天前 | 220 次浏览 | 分享到:
臭氧等离子体表面处理可有效蚀刻芳纶纤维,氧等离子体表面处理并在纤维表面引入极性基团,已被证明可提高芳纶纤维的染色能力,但存在色牢度不足、纤维强力降低等问题。经臭氧等离子体预处理后,对纤维进行树脂包覆,进而优化染色工艺。探索了改性芳纶的染色性能和耐高温性能,为芳纶染色提供了新思路。芳纶织物的树脂表面改

臭氧等离子体表面处理可有效蚀刻芳纶纤维,氧等离子体表面处理并在纤维表面引入极性基团,已被证明可提高芳纶纤维的染色能力,但存在色牢度不足、纤维强力降低等问题。经臭氧等离子体预处理后,对纤维进行树脂包覆,进而优化染色工艺。探索了改性芳纶的染色性能和耐高温性能,为芳纶染色提供了新思路。芳纶织物的树脂表面改性有利于分散染料的染色。

表面处理与涂层缺陷

经过短时间的清洗,表面处理与涂层缺陷可将有机污染物彻底清除,并通过真空泵将污染物抽走,清洗程度达到分子级。等离子体清洗剂不仅具有超清洗功能,在特定条件下,还可以根据需求改变某些材料的表面功能。材料表面的等离子体效应使表面分子的化学键重新结合,形成新的表面特性。对于一些有特殊用途的材料,等离子清洗剂的辉光放电不仅增强了这些材料的附着力、相容性和润湿性,还能对其进行消毒杀菌。

如果您对等离子表面清洗设备有更多的问题,氧等离子体表面处理欢迎向我们提问(广东金莱科技有限公司)

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表面处理与涂层缺陷

表面处理与涂层缺陷

在等离子体表面处理中,等离子体与外界数据发生多种物理化学反应,表面通过刻蚀变得粗糙(可以增加表面,增加表面与水分子之间的吸引力)。将不同的含氧极性基团(氧等离子体处理,或置于空气中后氧化)引入一起,极性基团与带有极性分子的水分子有吸引作用,增加了数据间的触碰区域,一起外表面含有亲水性基团,增加亲水性。

例如,氧等离子体氧化性高,可氧化光刻胶产生气体,从而达到清洗效果;腐蚀气体的等离子体具有良好的各向异性,可以满足刻蚀的需要。等离子体处理会发出辉光,故称辉光放电处理。是一家专业从事等离子表面处理设备研发、生产、销售为一体的高新技术企业。

之后,这些活性基团与分子或原子碰撞,活性基团相互碰撞形成稳定的产物和热。此外,高能电子还可以被卤素、氧等电子亲和力较强的物质俘获,成为负离子。这些负离子具有良好的化学活性,在化学反应中起着重要作用。等离子体的性质:等离子体状态常被称为“超气态”。它与气体有许多相似之处,如形状体积和流动性待定,但等离子体也有许多独特的性质。等离子体中的粒子具有群集效应。

这是由于碳化过程中有大量的前驱体元素和各种气体(如CO2、CO、H2O、NH3、H2、N2)的形成和逸出导致纤维表面和内部孔洞和缺陷的形成,特别是当某一阶段释放的气体过强时,纤维表面和内部形成的孔洞和缺陷更为严重。在碳纤维中观察到五种类型的缺陷:中心空洞、双锥形空洞、夹杂物、针状空洞和表面裂纹。纤维表面缺陷周围的微晶基面与缺陷的形状一致,缺陷周围基面的取向无序区增大。

表面处理与涂层缺陷

表面处理与涂层缺陷

日本研究组关于中性粒子蚀刻35族化合物的研究较多。他们不仅使用了这种极其先进的蚀刻技术,表面处理与涂层缺陷还使用了有机材料作为蚀刻掩模。原来,有机掩模材料较软,在等离子体轰击下容易变形、塌陷、产生缺陷,导致图案定义偏差。这就是为什么集成电路的加工逐渐从软的、单一掩模材料向硬的、多层掩模材料转变的原因。然而,有了中性粒子蚀刻技术,更柔软的有机掩模可以再次使用。由于中性粒子主要依靠干化学蚀刻,电子温度极低,可有效保护掩模材料。

为了延伸摩尔定律,表面处理与涂层缺陷芯片制造商必须不仅能够从平坦的晶圆表面移除更小的随机缺陷,而且能够适应更复杂、更精细的3D芯片架构,以免造成损坏或材料损失,从而降低(低)产量和利润。

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