清洗的重要作用之一是提高薄膜的附着力,FPC等离子体清洗机器例如在SI基板上沉积AU薄膜。它还通过处理来自 AR 等离子体的碳氢化合物表面和其他污染物显着提高了 AU 的附着力。等离子处理后,基材表面会残留一层含有氟化物的灰色材料。可以通过解决方案将其删除。同时有利于提高表面的附着力和润湿性。在清洗
清洗的重要作用之一是提高薄膜的附着力,FPC等离子体清洗机器例如在SI基板上沉积AU薄膜。它还通过处理来自 AR 等离子体的碳氢化合物表面和其他污染物显着提高了 AU 的附着力。等离子处理后,基材表面会残留一层含有氟化物的灰色材料。可以通过解决方案将其删除。同时有利于提高表面的附着力和润湿性。在清洗过程中通过激活等离子体表面形成的自由基可以进一步形成某些官能团。