目前市场上所有的去胶方式中，用等离子去胶是相对简单的一种。

等离子去除光刻胶，一般要用到等离子去胶机，它是专业等离子去除光刻胶的机械设备，等离子去除光刻胶的工作方法是这样的：

等离子去胶机通过把O₂变成氧原子的等离子，然后把氧原子和抗腐蚀剂中的C原子及H原子快速反应。生成CO、CO₂和H₂O三种化合气体。最后顺流去胶台中进行去除光刻胶。

金徕等离子去胶机，可以实现半导体去除光刻胶、残胶，以及线路板的残胶；在去胶过程中对器件损伤低，可以一次性解决用户的需求。 

以上为等离子去除光刻胶的工作方法，如有疑问，详询：13538058187（微信同号）