此类间隔物也称为氮化硅间隔物或氮化硅/氮化硅（氧化物SIN，电池极片plasma表面处理机ON）间隔物。 0.18M时代，这个氮化硅侧壁的应力太高了。如果它很大，饱和电流会降低，泄漏会增加。为了降低应力，需要将沉积温度提高到700℃，这增加了量产的热成本，也增加了泄漏。所以在0.18M时代，选择了ONO的侧墙。

因此，plasma激光与点阵激光提高C2烃的选择性和C2烃的收率是研究的基础。

C2烃和CO的产率峰形基本发生变化。这表明在一定范围内增加BaO负载量有利于提高催化活性，plasma激光与点阵激光但负载量过高时，BaO会在Y-Al2O3表面堆积，催化催化剂活性降低。催化剂的焙烧温度影响催化剂活性颗粒的尺寸和表面形貌，并在一定程度上影响催化剂的反应性。一般来说，在较低的煅烧温度下，更容易获得高度分散的小颗粒，晶格结构往往有缺陷，而在较高的煅烧温度下，可以获得较大的颗粒。

辉光放电也是低温等离子清洗技术的一种方法。辉光放电也是低温等离子清洗技术的一种方法。冷等离子体通常定义为部分电离的气体，plasma激光与点阵激光由受激原子和分子、正负离子、自由基、电子、光子等组成，整体呈电中性。等离子体通常分为平衡等离子体和非平衡等离子体。平衡等离子体，也称为热等离子体，其特点是所有内部粒子都处于热平衡状态。事实上，电子、离子和原子要达到热平衡需要非常高的压力和温度。热等离子体的典型例子是恒星。

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& EMSP; & EMSP; ③ 电弧发射区 & EMSP; & EMSP; 当电流超过10-1A且气压较高时，正柱区产生的焦耳热大于颗粒在壁面产生的热扩散...当正极柱中心的气体温度升高时，气体电导率上升，电流集中在正极中心，出现不稳定收缩现象。 & EMSP; & EMSP; 最后导电正极柱收缩到热电电流密度大的电弧称为电弧放电。

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