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清洗晶圆的等离子清洗机相比其他等离子清洗机的差别
来源: | 作者:深圳金徕 | 发布时间: 1405天前 | 2163 次浏览 | 分享到:

清洗晶圆的等离子清洗机相比其他等离子清洗机的差别


1、等离子清洗晶圆是在千级以上的无尘室中进行的，对微颗粒的要求极高，任何超标的微颗粒存在，都会造成晶圆不可挽回的缺陷。所以设计等离子清洗机的腔体首先一定要是铝质，而不是不锈钢材质；摆放晶圆的托架滑动部分，要尽量采用不容易产生粉尘和被等离子腐蚀的材料；电极和托架方便拆卸，便于日常维护。
2、 等离子清洗机反应腔体内的电极间距和层数，以及气路分布，对于晶圆处理的均匀性都重大的影响，这些指标都需要不断试验来优化。
3、等离子清洗晶圆的过程中，会产生一定的热量累积，处于工艺的需要，维持电极板的温度在一定范围是必要的，所以通常会给等离子清洗机的电极加上水冷。
4、 多层电极的等离子清洗机产能比较高，可以根据需要每一层托架上摆放多片晶圆，比较适合于半导体分立器件、电力电子元器件专用4寸及6寸晶圆的光刻底膜去除等。

上述所讲解的就是清洗晶圆的等离子清洗机相比其他等离子清洗机的差别，希望看完能够对您有所帮助，如果您想要了解更多关于等离子清洗机的相关信息，欢迎继续浏览深圳金徕网站！


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