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气体在高频和低频下被激发，真空等离子处理设备产生各种活性粒子，包括离子、激发分子、自由基等。工件表面经过化学或物理作用处理，在分子水平上完成污染物的去除（厚度一般为3-30NM），进而使工件的表面活性得到提高。不同的污染物需要选择不同的清洗工艺。等离子清洗根据选用的工艺气体不同，可分为化学清洗、物理清洗和物理化学清洗。等离子清洗机对人体有辐射吗？等离子产生辐射是真的，科技制造的真空等离子处理设备在放电时由电脑操作也没关系。

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溅射现象是否会影响真空等离子处理器处理的产品，真空等离子处理设备直流辉光放电或交流高频放电是否无关紧要？真空等离子处理设备产生的溅射现象普遍较弱。对于普通产品或材料来说，这种微弱的溅射现象并不影响基板的性能，但如果加工产品有严格的加工要求，那么对于医疗产品来说，就成为对基板溅射现象的要求增加。一般来说，溅射越少越弱越好。从真空等离子处理设备的电极结构了解与溅射兼容的耦合射频真空等离子表面处理设备。

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