深圳金徕

业务咨询：135-3805-8187

0769-8808 7892

                 

ShenZhen city JinLai Technology Co., Ltd.​​​
深圳市金徕技术有限公司​​​​

晶圆光刻胶怎么去除干净-深圳金徕

来源: | 作者:深圳金徕 | 发布时间: 2021-06-07 13:34:57 | 1573 次浏览 | 分享到:

  光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。光刻胶应该具有比较小的表面张力，使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。

  光刻胶通过曝光、显影和刻蚀等方式在每一层结构面上形成所需要的图案。在进行后一层处理时，需要将前一次使用后的光刻胶完全去除。
  由预先定义好的图形把不要的局域去除，保留要留下的区域，将图形转移到所选定的图上的过程需要等离子处理。深圳金徕等离子去胶机可以将很深洞中或其他很深地方将光刻胶的残留物去除。
  光刻胶传统的去除方法：湿化方法去除晶圆表面的光刻胶存在反应不能控制，清洗不彻底，容易引入杂质等缺点。
  作为干式方法的等离子清洗机可控性强，一致性好，用深圳金徕等离子去胶机不仅彻底去除光刻胶和其他有机物，而且活化晶圆表面，提高晶圆表面浸润性。只需要通过等离子清洗设备的简单处理，就能将自由基将高分子聚合物完全清除干净，包括在很深且狭窄尖锐的沟槽里的聚合物，达到其他清理方式很难完成的效果。
上述所讲解的就是晶圆光刻胶怎么去除干净，希望看完能够对您有所帮助，如果您想要了解更多关于等离子清洗机的相关信息，欢迎继续浏览深圳金徕网站！
新闻资讯