接下来分析了电晕清洗在ITO领域的应用特点。氧化铟锡(ITO)是一种重要的透明半导体材料。一方面，电晕处理的机理它具有稳定的化学性质，良好的透光性和导电性，因此在光电工业中得到广泛的应用。ITO在沉积过程中形成高度简单的n型半导体。在Sn掺杂情况下，费米能级Er在导带底EC以上，载流子浓度高，电阻率低。此外，ITO具有较宽的光学带隙，因此可见光和近红外光的透过率更高。

为了提高玻璃面板的强度和硬度，电晕处理的机理通常采用化学钢化处理，化学钢化前需要清洗。如果清洗不好，会影响强化效果。传统的清洗方法是先用洗涤剂擦洗，再用酸液、碱液、有机溶剂进行超声波清洗，操作复杂，费时费力，容易造成污染。常压低温电晕是近年来各种气体辉光放电产生的一种冷电晕，具有击穿电压低、离子和亚稳分子浓度高、电子温度高、中性分子温度低等优点，电晕处理区域均匀，可控性好，不需要真空，可连续进行表面清洗。

电晕清洗还具有以下特点：易于采用数控技术，电晕处理的机理自动化程度高；采用高精度控制装置，时间控制精度很高；正确的电晕清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，确保清洗面不受二次污染。。电晕的关键是低温电晕的应用，低温电晕的应用主要取决于高温、高频、高能量等外界条件。它是一种电中性的、高能的、完全或部分电离的气态物质。

高能离子净化系统在欧洲主要应用于医院、办公楼、公共大厅等，一种高阻隔共挤膜电晕处理装置近年来逐渐发展应用于污水处理。荷兰、瑞典等国都有不少例子。电晕中有机物的降解机理主要包括以下过程：（1）在高能电子作用下，产生强氧化自由基·O、·OH和·HO2。（2）。有机分子被高能电子激发，原子键裂开形成基团和原子的小碎片。

电晕处理的机理

电晕由电子、离子、自由基、光子和其他中性粒子组成。由于电晕中电子、离子、自由基等活性粒子的存在，容易与固体表面发生反应。电晕的清洗机理主要依靠电晕中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污渍。就反应机理而言，电晕清洗通常包括以下过程：无机气体被激发成电晕态；气相物质吸附在固体表面；吸附基团与固体表面分子反应形成产物分子；产物分子分解形成气相；反应残留物从表面除去。

据了解，自20世纪90年代以来，国外对放电电晕的技能和使用的研究发展迅速，对放电电晕机理和特性的研究与使用的工业联系日益紧密。“国内研究起步较晚，大气压放电电晕的科技开发与产业布局相分离，限制了这项绿色节能无污染技能的广泛使用。”中国电工技能学会副秘书长奚大华表示，针对这一情况，现在很多科研单位都在就此问题进行联合研讨。“。

电晕采用数控技术，自动化程度高；采用高精度控制装置，时间控制精度很高；正确的电晕清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；不污染环境，确保清洁后的表面不受二次污染。随着电子信息产业，特别是通信产品、计算机及元器件、半导体、液晶和光电子产品的发展，超精密工业清洗设备和高附加值设备的比重逐步提高。电晕设备已成为它是许多电子信息产业的基础设备。

电晕清洗还具有以下特点：易于采用数控技术，自动化程度高；采用高精度控制装置，时间控制精度很高；正确的电晕清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，确保清洗面不受二次污染。。

一种高阻隔共挤膜电晕处理装置

与其它电晕清洗装置相比，电晕处理的机理该装置的优点是放电非常稳定。当玻璃在其上方或在其上方运动时，电晕对玻璃表面进行有效轰击，从而达到在线清洗的目的。与其它电晕清洗装置相比，该装置具有放电非常稳定，适用于连续生产场合的优点；排放区域限定在一定方向，不会产生二次污染；放电相当均匀，有利于大面积基片的在线均匀清洗。