因此，电晕处理过程简图许多材料由于表面能低而难以粘结、喷涂、印刷和焊接。化学底漆、液体粘结剂、火焰处理、电晕表面处理器等都是可以提高表面能的活化方法。其中，化学底漆和液体粘结剂往往具有较高的腐蚀性和环境危害性，火焰处理不稳定，危险系数高，只有电晕器无损无污染，工艺稳定安全。是活化处理的前沿发展方向。

在溅射、喷漆、键合、粘接、焊接、钎焊、PVD和CVD镀膜前，电晕处理机产生的臭氧的危害需要进行电晕处理，以获得无氧化层的完全清洁表面。焊接操作前：通常印刷电路板在焊接前要用化学焊剂处理。焊接后，这些化学物质需要电晕去除，否则会带来腐蚀等问题。在粘接操作之前：良好的粘接经常被电镀、粘接和焊接操作的残留物削弱，这些残留物可以通过用电晕去除。同时氧化层对键合质量也有危害，需要用电晕去除。

电晕清洗工艺对硅表面微纳颗粒去除机理的研究；元器件表面的微纳杂质颗粒对微纳制造、光电子器件开发和应用危害很大，电晕处理机产生的臭氧的危害因此研究微纳杂质颗粒的有效去除方法具有实际应用价值。对于微纳颗粒的去除，传统的清洗方法效果不佳，难以满足要求。电晕清洗作为一种新型清洗技术，具有去除能力强、效果好、非接触、易操作等优点，具有广泛的应用前景。

常见的电晕激发频率有三种：激发频率为40kHz的超声电晕、激发频率为13.56MHz的射频电晕和激发频率为2.45GHz的微波电晕。各种电晕线的自偏压不同。超声电晕的自偏压约为0V，电晕处理过程简图射频电晕的自偏压约为250V。微波电晕的自偏压很低，只有几十伏。三种电晕的形成机制不同。超声电晕的反应是物理反应，射频电晕的反应是物理反应和化学反应，微波电晕的反应是化学反应。

电晕处理过程简图

产生电晕的电晕清洗/蚀刻机设备，在密封容器内设置两个电极形成电场，用真空室引出进行一定程度的真空，随着气体越来越稀薄，分子之间的距离越来越远，分子或离子的自由运动距离越来越长，在电场的作用下，它们之间的碰撞形成电晕，电晕活性越来越高，其能量可以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面上引起反应。

电晕/电晕处理器/电晕处理设备广泛应用于电晕清洗、电晕刻蚀、隔离胶、电晕涂层、电晕灰化、电晕处理和电晕表面处理等领域。通过电晕的表面处理，可以提高材料表面的润湿能力，从而可以对各种材料进行涂层、电镀等，增强附着力和结合力，同时去除有机污染物、油污或油脂；在引线临界之前，可以用电晕清洗器对芯片连接器进行清洗，以提高临界强度和成品率。

4.清洗医用导管表面后，粘连力更强六、电晕在纺织印染行业的应用1.纤维素纤维的上染性清洁和前染功能。2.蛋白纤维清洁，增强亲水性和吸附性。3.清洗合成纤维，增加吸湿性，消除静电。利用电晕技术，通过沉积亚微高度连接薄片获得新的表面结构，增强喷涂和表面清洁效果，形成疏水、疏油、亲水和屏蔽涂层。

近年来，MPCVD技术取得了长足发展，对天然金刚石沉积工艺参数影响的研究已趋于成熟，但对MPCVD装置谐振腔的研究还有待进一步深入。微波谐振腔是MPCVD装置中的关键部件。不同的微波谐振腔结构会影响电场的强度和分布，从而影响电晕设备的电晕状态，最终影响天然金刚石沉积的质量和速率。研究MPCVD装置中微波谐振腔的结构对天然金刚石的生长有一定的参考价值。

电晕处理机产生的臭氧的危害