主电路电源由分离膜接触器控制，cob等离子体表面处理机器气体流量由电磁阀控制，高频振荡器由控制电路控制引弧，当电弧建立时，高频停止运行。如何选择等离子清洗机的工艺气体等离子清洗机常用的工艺气体有氧气（OXYGEN，O2），氩气（ARGON，AR），氮气（NITROGEN，N2），压缩空气（COMPRESSED AIR，CDA）。 ）是。

)、二氧化碳(CARBON)、CO2)、氢气(HYDROGEN, H2)、四氟化碳(CARBON TETRAFLUORIDE, CF4)等。 1 氧气 氧气是等离子清洗中常用的一种活性气体，cob等离子体表面处理机器属于物理+化学处理方式。电离后产生的离子会物理撞击表面并形成粗糙表面。同时，高活性氧离子可以与裂解的分子链发生化学反应，形成活性基团的亲水表面，达到表面活化的目的。裂解结合后的有机污染物元素具有高度的相互作用。

-低温等离子发生器广泛应用于手机镀膜和新材料制造行业-低温等离子发生器广泛应用于手机镀膜和新材料制造行业： -除了机械设备制造效果在低温等离子发生器中，cob等离子刻蚀机 Ar*主要受等离子体等离子体的化学作用激发，氧分子激发高能电子分解氧分子，激发氧原子产生润滑油和硬脂酸，会被污染。主要成分是碳氢化合物。 , 而这些碳氢化合物被氧自由基类氧化，生成 CO2 和 H2O，从而去除玻璃表面的油脂。

一般来说，cob等离子体表面处理机器加工深度的范围可以从纳米（米）到微米级别。单凭肉眼很难看出治疗前后产品的变化。因此，冷等离子发生器广泛用于手机涂料和新材料的制造。 -低温等离子设备清洗不消耗其他耗材-低温等离子设备清洗不消耗其他耗材：-低温等离子设备清洗工艺优势-相比低温等离子设备清洗，水清洗一般是一种稀释环节，可实现真正意义上的100%清洗。与CO2清洗工艺相比，低温等离子设备清洗不消耗其他耗材。

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在等离子体等离子体的作用下，负载型镧系元素氧化物催化剂CO2将CH4氧化成C2等离子体。负载型镧系元素氧化物催化剂CO2在等离子体作用下将CH4氧化成C2：负载型镧系元素氧化物催化剂具有良好的OCM反应活性。对于 CH4 到 C2 烃催化活化的 CO2 氧化，La2O3 / ZnO 表现出高达 97% 的 C2 烃选择性（在 850°C 时甲烷转化率为 2.1%）。

由于镧系催化剂和等离子体的共同作用，CH4的转化率为24%～36%，二氧化碳的转化率为18%～22%。实验结果表明，在等离子体作用下，不同镧系催化剂对CH4的活化能力存在显着差异，而对二氧化碳的活化能力相近（纯等离子体作用），以下CO2转化率接近20% ）。根据实验事实，镧系催化剂在纯催化条件下具有比催化活性。在等离子体的作用下，可以推断该催化剂可以通过表面反应参与甲烷的CH键断裂过程。

由于其特征参数包括等离子体的各种特征温度，因此大气压等离子体温度可以很容易地从等离子体的实际测量光谱和得到的光谱中得到。为了确定等离子体温度，利用光谱技术测量了氮分子的第二正带N2（C3π）发射光谱和氯分子的振动和旋转，与Speair模拟的光谱相比，温度已经确定。等离子清洗系统采用大气介质阻挡放电，放电电压25.4kV，放电频率13.8kHz，N2流量100ml/min。氨分子光谱的正带辐射。

等离子清洗机与真空泵相连，清洗室中的等离子在工作时轻柔地清洗被清洗物体的表面，在短时间内彻底清洗掉有机污染物，排放污染物增加。用真空泵清洗的程度达到分子水平。除了超强清洁能力外，等离子清洁剂还可以在某些条件下改变某些材料的表面特性。等离子体作用于材料表面，重组表面分子的化学键，形成新的表面特性。

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