当使用Cl2/Ar/H2的混合气体时，PCB等离子体蚀刻机器在150℃下得到良好的磷化铟图案，在高温下得到平滑连续的图案，但在150℃时的温度仍然很低。 2007年，清华大学报告了如何进一步优化气体比例和改善其他条件来克服这些问题。这种蚀刻方法克服了常温下难以挥发的副产物的难点。这高于 In，因为 CH4 与氯气的适当气体比例形成了 In (CH) x 副产物。Clx 更容易通过挥发去除。磷化铟具有低表面粗糙度并且不保留副产物。

压力对磷化铟蚀刻的影响。当压力增加时，PCB等离子体蚀刻副产物不断积累，选择性不断下降，蚀刻结束。在5Pa条件下，有和没有氮化硅硬掩模环境的蚀刻图案基本相同，但在10Pa条件下，没有氮化硅硬掩模，图案密度、副产物或聚合度都在高区。不同图案环境下蚀刻深度有较大差异，因为材料较多，蚀刻速率急剧下降。在 20 Pa 的压力下，蚀刻是可能的，因为聚合物的量太高而无法覆盖整个图案，并且无论图案周围的密度环境如何，蚀刻都无法进行。

等离子表面处理是利用等离子高能粒子与有机材料表面发生物理化学反应，PCB等离子体蚀刻活化、蚀刻、去污，不仅在材料表面，还可以在这样的各种表面上进行。实现。作为材料的摩擦系数、粘附性和亲水性。提高性能的目的。等离子体和电晕的处理方式不同。 Corona 只能处理非常薄的物体，例如塑料薄膜。..等离子表面处理机和电晕机表面处理的相同点： 1.等离子表面处理和电晕机表面处理是高频高压辉光放电，对材料表面进行等离子处理。

在400～800℃的煅烧温度范围内考察了煅烧温度对10%-BaO/Y-Al2O3催化活性的影响，PCB等离子体蚀刻机器当煅烧温度为400℃时，CH4和CO2的转化率虽然略高于C2的煅烧温度，但由于C2烃的选择性低，C2烃的收率下降。这是因为负载在 Y-Al2O3 表面上的 Ba (NO3) 2 在此温度下没有完全分解。这可以在样品的 X 射线衍射 (XRD) 光谱中看到。

PCB等离子体蚀刻机器

各种有机污染物的显微反应镜面分子结构可以改变，在一定条件下，也可以改变镜片表面的性质，达到对镜面进行清洁、杀菌、消毒的目的。另外，清洗等离子设备所用的清洗剂是气体，反应产物也是气体，所以没有二次污染。用等离子设备清洗后，硬镜效果有所提升。 1.改善视觉效果。采用低温等离子体，可以有效去除镜片表面的杂质，深度清洁表面，使表面光滑。 2.改善合身性。等离子处理后，可以减小硬镜的润湿角，提高润湿性和亲水性。

例如，可用作电子束提取窗、高频大功率电子器件、高灵敏度弹性表面波滤波器、切削工具等。

将经过处理和未经处理的工件浸入水中（极性溶液）具有非常显着的活化效果。在未处理的部分中，形成了正常形状的液滴。处理部分的处理部分被水完全润湿。 3. 玻璃和陶瓷可以活化吗？玻璃和陶瓷的行为与金属相似，并且侵蚀性处理具有更短的使用寿命。压缩空气通常用作工艺气体。 4、如何量化等离子清洗机的处理效果？使用接触角计测量：该方法测量水滴在活化表面上的润湿角。活化效果越高，在表面扩散的水滴就越多。

锋利的毛刺更容易伤害人体皮肤并威胁人身安全。我们开发了等离子表面处理机，以解决注塑产品毛刺和注塑后精加工产生的毛刺问题。等离子表面处理机去毛刺塑料毛刺的原理：气体等离子，利用能量转换技术将气体转化为高反应性气体等离子，温和地清洗固体样品表面，改变其分子结构，样品表面是一种超洁净、非破坏性表面处理方法，可在极短时间内完全去除有机污染物。去污力在分子水平上达到目标水平。

PCB等离子体蚀刻机器