通常情况下，氢氧化钠刻蚀二氧化硅模板的条件氢气作为放电气体参与反应引起还原反应，如清洗金属表面的氧化物，材料表面的氧化物与放电产生的氢离子发生反应。水。氧气主要利用其氧化作用去除零件表面的有机物。以氧气为气体进行反应，发生氧化反应，氧气电离产生的氧离子将材料表面的有机物氧化，生成二氧化碳和水。非反应性气体电离后，离子的物理作用主要用于去除污染物。在清洁过程中，一些气体还会改变材料的表面特性。例如，氮等离子体可以提高金属材料的硬度和耐磨性。

在电场的作用下，二氧化硅蚀刻机等离子体高速运动并与物体表面发生物理碰撞。能量等离子体的量足以去除各种污染物。同时，氧离子可以将有机污染物氧化成二氧化碳和水蒸气，可以排出机舱。等离子清洗不需要其他原料，使用方便，干净，只要空气、氧气、氢气、氮气等气体满足要求，就比其他清洗机有很多优点。 ..等离子不仅可以清洁表面，还可以提高表面的活性。等离子体与物体表面之间的化学反应产生活性化学基团。

清洗和蚀刻：例如使用等离子清洗机清洗时，二氧化硅蚀刻机工作气体通常是氧气，经过加速电子的冲击，变成氧离子和自由基，使其具有高度的氧化性。零件表面的油脂、助焊剂、感光膜、脱模剂、冲头油等污染物迅速氧化成二氧化碳和水，由真空泵排出，对表面进行清洁，变湿，附着力提高。 .. ..材料表面的低温等离子处理不影响材料本体的性能。

注意：不要使用手工抛光、砂纸、研磨剂、喷砂或其他机械清洁。氢氧化钠溶液与铝剧烈反应。应注意仅在规定时间内清除沉积物。在反应过程中，氢氧化钠刻蚀二氧化硅模板的条件产生的氢气会爆炸。因此，工作区域必须通风良好。电极清洗程序： (1) 将真空箱内的沸水取出，打开电源，关闭电源，取下接地电极。 （注意各电极的初始位置，以便清洗后安装在同一位置。） （2）保护冰水机进出口，取出常温电极，浸泡。在 10% 氢氧化钠溶液中。

二氧化硅蚀刻机

射频驱动低压等离子清洗技术是一种有效且低成本的清洗方法，氟化物、氢氧化镍、有机溶剂残留物、环氧树脂溢出物、材料氧化层、等离子清洗和键合等现有污染物显着提高了键合强度和键合线张力。均匀性是引线键合。在引线键合之前，气体等离子技术可用于清洁芯片触点，以提高键合强度和良率。表 3 显示了一个改进的抗拉强度比较的例子。使用氧气和氩气的等离子清洗工艺可以保持较高的工艺。承载力指标CPK值同时，能有效提高抗拉强度。

电极和托盘需要根据附件的数量进行翻新和维护，以确保稳定的清洁。洗涤剂要求：氢氧化钠、硫酸、自来水、蒸馏水。注意：请勿使用机械方法，例如手磨机、砂纸或抛光喷砂。氢氧化钠溶液与铝发生剧烈反应，因此必须注意在所需时间内清除沉积物。工作时会产生可能引起反应爆炸的氢气。由于它是一个区域，因此工作区域需要通风良好。真空泵保养 检查真空泵油位和油纯度，观察油位窗口，确保油位接近最小红线刻度，在上下红线之间加油。

耗材及节电 1、关键技术参数 A、供电电压：220 V50 HZB。产气纯度：99.995% C. 输出流量；。输出压力：0.4MPA（如需特殊压力，请通知厂家说明） E.最大功率：250WF。环境温度：0-40°C 相对湿度<85% G.环境条件：无大量灰尘或腐蚀的气体H.尺寸：520 x 280 x 400 MM (L x W x H) I.毛重：约13 KGII。

涂层的硬度即使在高温下长时间也不会发生变化，在相同的工作条件下摩擦系数从0.110下降到0.089并显着增加。喷涂铝涂层是目前理想的活塞环涂层，因为它在润滑条件下具有优异的抗咬合性，并能承受瞬间的高温摩擦。四、等离子喷涂其他涂层的应用： 1.耐热涂料耐热涂料广泛应用于高温工程，如高温抗氧化、高温隔热等。氧化铝通常用作广泛使用的耐热涂层。航空发动机、燃气轮机等高温工作的零部件表面起绝缘作用。

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十多年来，二氧化硅蚀刻机各种改进的等离子体成束操作已在托卡马克装置的各种设计中实施，以形成内部和边界传输屏障，并创建特定区域和传输通道（主要是离子热传输）。假设。聚变三元产物已经达到或接近氘氚热核聚变反应的条件，与氘氚聚变的点火条件相差不到一个数量级，说明燃烧等离子体物理学已经发展起来。聚变反应堆综合技能研讨会的条件。国际热核试验堆（ITER）将成为未来这项研究的重要试验设施。