等离子蚀刻是什么 能用来做什么
等离子蚀刻是什么:
简单地说,等离子体或干法蚀刻是用等离子体代替液体蚀刻剂进行的蚀刻工艺,为此设置很像溅射,在此过程中,您实际上不必沉积一层,而是同时蚀刻材料表面。
等离子蚀刻(或干蚀刻)的主要挑战在于在电极和必须蚀刻的晶片之间的某处产生正确类型的等离子体。
如果操作得当,晶圆将以正确的方式蚀刻,要进行等离子蚀刻,压力室的压力必须小于 100 帕,电离仅在辉光电荷下发生,产生的激励由外部源产生,该外部源可提供高达 30 kW 的功率,频率范围为 50 Hz (DC) 至 5 – 10 HZ (Pulsed DC),以及无线电和微波频率 (MHz-GHz)。

等离子蚀刻的工艺流程:
蚀刻是从另一种材料的表面去除一种材料的过程。有几种等离子体处理方法,但主要有两种蚀刻类型。
一种是湿蚀刻,第二种是干蚀刻,也称为等离子蚀刻或简称等离子蚀刻。
当在蚀刻过程中使用化学品或蚀刻剂去除基板材料时,称为湿法蚀刻。另一方面,等离子体蚀刻使用等离子体或蚀刻剂气体来去除衬底材料。也用于制造集成电路或单片集成电路。
等离子蚀刻是一种自 1985 年以来普遍用于结构蚀刻的工具。 与进入芯片制造的其他蚀刻技术相比,等离子蚀刻在 1980 年之前在微电子社区之外是闻所未闻的。
正是在这段时间里,人们正在探索和引入新的蚀刻工艺。等离子蚀刻相对较高的成功率使其成为众多制造商的首选蚀刻类型。

等离子清洗前
等离子蚀刻能用来做什么:
1、与酸蚀刻剂不同,等离子蚀刻剂是一种极好的清洁剂,可以去除金属表面上任何不需要的有机残留物。
2、与其他蚀刻剂相比,等离子蚀刻可以更好地粘附两个表面。
3、等离子体蚀刻被认为比传统的酸蚀刻风险更小。
4、等离子体清洗的使用改善了蚀刻材料的物理特性。
5、等离子蚀刻改善了金属的化学和物理特性。
这些是已经发现等离子蚀刻可以用来应用的功能,会导致集成电路制造质量的显着改进。

等离子清洗后
等离子蚀刻是什么 能用来做什么 总结:
由于其众多优势,很容易看出干蚀刻和等离子体蚀刻将如何在未来许多年内仍然是蚀刻微系统和集成电路的重要技术。
此外,对于许多应用,使用电容耦合射频等离子体将是最佳选择,对于其他更具体的应用,尤其是需要高纵横比的应用,使用低压等离子体可以提供更好、更有效的解决方案。